硅片超聲波清洗機的清洗原理主要依賴于超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用。具體來說，清洗機將電能轉化為機械能，使清洗槽中的液體產生高頻振動，形成聲波。當聲波作用于硅片表面時，會在其表面形成微小的氣泡并迅速破裂，從而產生強大的沖擊力，將硅片表面的污垢和雜質剝離并分散在清洗液中。
這些氣泡在液體中振動并快速崩潰，產生微小的擦洗動作，從而去除硅片表面的顆粒。這一過程稱為空化作用，它有助于將污物層分散、乳化、剝離，達到清洗的目的。
此外，超聲波清洗機還包括超聲波發(fā)生器、清洗槽、輸送帶、過濾器、回收系統(tǒng)等部分。超聲波發(fā)生器產生高頻振動，通過清洗槽傳遞到清洗液中。輸送帶將硅片逐一輸送到清洗槽內，而過濾器則用于過濾掉清洗液中的雜質。回收系統(tǒng)可以將清洗液循環(huán)使用，減少浪費。
注意的是，使用超聲波清洗機前需要對硅片表面進行預處理，如去除表面的油脂和松散物質，以確保清洗效果。此外，該清洗機不僅適用于硅片，還可用于清洗光學設備、塑料殘留物等其他材料，具有廣泛的應用范圍。
